図解入門最新よくわかる半導体プロセスの基本と仕組み[第4版]

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図解入門最新よくわかる半導体プロセスの基本と仕組み[第4版]

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2,090 円 (税抜き)

佐藤淳一 秀和システムズカイニュウモン サイシン ヨクワカル ハンドウタイ プロセス ノ キホントシクミ ダイヨンパン サトウ ジュンイチ 発行年月:2020年08月29日 予約締切日:2020年07月25日 ページ数:256p サイズ:単行本 ISBN:9784798062457 半導体製造プロセス全体像/前工程の概要/洗浄・乾燥ウェットプロセス/イオン注入・熱処理プロセス/リソグラフィプロセス/エッチングプロセス/成膜プロセス/平坦化(CMP)プロセス/CMOSプロセスフロー/後工程プロセスの概要/後工程の動向/半導体プロセスの最近の動向 シリコンが半導体になる製造工程を俯瞰。半導体製造工程の流れが図解でよくわかる。 本 科学・技術 工学 電気工学

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