液浸リソグラフィのプロセスと材料（エレクトロニクス材料・技術シリ-ズ）

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エレクトロニクス材料・技術シリーズ東木達彦シーエムシー出版エキシンリソグラフィノプロセストザイリョウヒガシキ,タツヒコ発行年月：2006年10月ページ数：243p サイズ：単行本 ISBN：9784882315841 東木達彦（ヒガシキタツヒコ）（株）東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター半導体プロセス開発第二部リソグラフィ技術開発第三担当グループ長（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）液浸リソグラフィーとは/液浸露光用塗布現像装置/レチクル技術/液浸リソグラフィの光学系/液浸露光装置の開発/液浸用レジストの開発/液浸用トップコート材料/液浸レジスト材料の評価/含フッ素樹脂のリソグラフィ分野への応用/偏光照明技術/高NA投影レンズの開発/次世代液浸露光用高屈折率液体の開発/次世代液浸リソグラフィの光学系/32mmハーフピッチに向けた今後のリソグラフィ展開本科学・技術工学電気工学

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